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首页 > 产品中心 > 半导体行业专用仪器 > CMP 化学机械抛光机
产品详情
CMP 化学机械抛光机
参考报价:
面议
品牌:
关注度:
19
样本:
暂无
型号:
CAP-H1
产地:
江苏
信息完整度:
典型用户:
暂无
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名 称:
江苏芯创微半导体技术有限公司
认 证:工商信息已核实
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产品分类
半导体行业专用仪器
CMP 化学机械抛光机
SiC衬底化学机械抛光机
wafer清洗机
导片机
摇摆切片机
粉体焙烧炉
PVT长晶炉
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产品简介
名称
CMP 化学机械抛光机
型号
CAP-H1
作业模式
干进湿出
适用工艺
SiC 衬底抛光
对应产品
4~8inch
CMP table
1 pcs
Contour head
分区压力控制
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产品分类
PVT长晶炉
CMP 化学机械抛光机
SiC衬底化学机械抛光机
导片机
wafer清洗机
摇摆切片机
半导体行业专用仪器
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